經鉻酸陽極氧化得到的陽極氧化膜厚度為2μm~5μm，空隙率低，膜層質軟，耐磨性較差，由于鋁的溶解少，形成陽極氧化膜后，零件仍能保持原來的精度和表面粗糙度，故該工藝適用于精密零件。表1是鉻酸陽極氧化工藝規范。

　　鉻配含量過高或過低，陽極氧化能力都降低，但稍微偏高是允許的。噴砂氧化加強染色前的清洗，產品由氧化槽中取出后要充分清洗，特別是工件的夾縫，盲孔處,否則殘留的酸在染色時會緩慢流出來，讓染色容液的PH偏離正常范圍，并使其部位的顏色和其它地方有明顯的差別，甚至腐蝕氧化膜。 鉻配含量過低的電解液不穩定。會造成膜層質量下降。

　　在鉻酸陽極氧化電解液中的氯離子、硫酸根離子和三價鉻離子都是有害的雜質。氯離子會引起零件的蝕刻;硫酸根離子數量的增加會使陽極氧化膜從透明變為不透明，并縮短鉻酸液的使用壽命;三價鉻離子過多會使陽極氧化膜變得暗而無光。

　　在陽極氧化開始的15min內，使電壓從0V逐漸升至40V,每次上升不超過5V，以保持電流在規定的范圍內，當槽電壓達40V后，一直保持到陽極氧化結束。鋁氧化加工化學氧化氧化膜較薄，厚度約為0.5～4微米,且多孔，質軟，具有良好的吸附性，可作為有機涂層的底層，但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜。

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